2022年中国半导体清洗设备行业市场规模有望达到150亿元,较2021年增长38.17亿元[图]
半导体设备的清洗工艺分为湿法和干法两种。湿法清洗采用特定的化学药液和去离子水,对晶圆表面进行无损伤清洗,具有效率高、成本较低等优势。湿法清洗设备主要包含了单片清洗设备、槽式清洗设备、组合式清洗设备和批式旋转喷淋清洗设备。半导体清洗设备清洗工艺行业分类
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在湿法清洗工艺路线下,目前主流的清洗设备主要包括单片清洗设备、槽式清洗设备、组合式清洗设备和批式旋转喷淋清洗设备等,其中单片清洗设备市场份额占比最高。各种清洗设备情况如下:
半导体清洗设备分类
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从半导体清洗设备产业链方面来看,产业链上游包括气路系统、管路系统、控制系统等,中游为清洗设备的设计和制造,下游则应用于Foundry厂、IDM厂等。
半导体清洗设备产业链
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近几年来,随着整个半导体投资加速,半导体设备市场高速增长的驱动下,半导体清洗设备行业市场规模高速增长,2020年大幅增长至67.92亿元,2021年达到了106.09亿元,预计2022年我国半导体清洗设备行业市场规模有望达到150亿元。
2015-2022年中国半导体清洗设备市场规模走势
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2023-2029年中国半导体清洗设备市场深度调查与投资前景评估报告
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