2026年中国半导体清洗设备供需分析：产量同比增长9.6%，国产化率快速提升[图]

共研产业研究院通过对公开信息分析、业内资深人士和相关企业高管的深度访谈，以及分析师专业性判断和评价撰写了《2026-2032年中国半导体清洗设备行业深度调研与投资战略报告》。本报告为半导体清洗设备企业决策人及投资者提供了重要参考依据。

为确保半导体清洗设备行业数据精准性以及内容的可参考价值，共研产业研究院团队通过上市公司年报、厂家调研、经销商座谈、专家验证等多渠道开展数据采集工作，并运用共研自主建立的产业分析模型，结合市场、行业和厂商进行深度剖析，能够反映当前市场现状、热点、动态及未来趋势，使从业者能够从多种维度、多个侧面综合了解当前半导体清洗设备行业的发展态势。

半导体清洗设备主要分为湿法清洗和干法清洗两大类，二者在技术原理、应用场景及市场定位上形成互补，美国对华的半导体技术限制，使“国产替代”从“可选项”变为“必选项”。国内晶圆厂有极强的动力验证和采购国产设备，以构建安全可控的供应链，预计2026年中国半导体清洗设备产量同比增长9.6%。

2020-2026年中国半导体清洗设备产量及增速

中国正在建设和规划大量的晶圆厂，为国产设备提供了宝贵的“试验田”和迭代机会，2026年中国半导体清洗设备需求量同比增长8%。

2020-2026年中国半导体清洗设备需求量及增速

中国是全球最大的半导体设备市场，清洗设备作为晶圆厂投资的重要一环，在当前中国晶圆厂持续扩产的背景下，市场规模增速高于全球平均水平，预计2026年中国半导体清洗设备市场均价将达2322.3万元/台。

2020-2026年中国半导体清洗设备市场均价

中国是全球最大的半导体设备市场，清洗设备作为晶圆厂投资的重要一环，市场规模巨大。在当前中国晶圆厂持续扩产的背景下，市场规模增速高于全球平均水平，预计2026年中国半导体清洗设备市场规模同比增长6.8%。

2020-2026年中国半导体清洗设备市场规模及增速