2022年全球光掩模板的分类、产业链、市场规模及市场竞争格局分析[图]

光掩模板被定义为在一次曝光中能把图形转移的工具，简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。

光掩模板分为明基板和遮光膜。其中：明基板分为透明玻璃、透明树脂；遮光膜可分为硬质遮光膜、乳胶。

光掩模板的分类

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光学掩模版在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。光掩模产业链上游主要是光刻机、研磨基板相关抗蚀剂等；中游是光掩模版制造；下游主要应用于半导体和平板显示等行业。

光掩膜版产业链

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目前全球范围内半导体是光掩模板主要需求领域，随着半导体产业整体需求持续扩张，全球光掩膜版市场规模不断增长，2021年全球光掩膜版市场规模达46.5亿美元，预计2022年全球光掩膜版市场规模达49亿美元。

2017-2022年全球光掩模板市场规模走势

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目前，全球光掩模板市场主要由美国Photronics、日本DNP以及日本Toppan三家公司所垄断，占比合计达到82%。

全球光掩模板市场格局

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