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2022年中国高性能溅射靶材市场规模及下游应用分析[图]

靶材是溅射薄膜制备的源头材料,又称溅射靶材,特别是高性能溅射靶材应用于电子元器件制造的物理气相沉积工艺,预计2022年中国高性能溅射靶材市场规模同比增长19.1%。

 

我国是全球最大的消费电子产品生产国、出口国和消费国,也是全球最大的集成电路半导体消费国和进口国,在最终下游众多生产及消费领域的需求驱动了我国高性能溅射靶材行业快速增长。

2017-2022年中国高性能溅射靶材市场规模及增速

2017-2022年中国高性能溅射靶材市场规模及增速

资料来源:共研产业咨询(共研网)

 

随着各类溅射薄膜材料在半导体集成电路、平面显示、信息存储等领域的广泛应用,下游领域对溅射靶材这一高附加值功能材料的需求不断增加,高性能溅射靶材市场规模日益扩大,呈快速增长态势。

2021年中国高性能溅射靶材行业下游应用市场占比

2021年中国高性能溅射靶材行业下游应用市场占比

资料来源:共研产业咨询(共研网)

 

更多本行业详细的研究分析见共研产业咨询(共研网)《中国高性能溅射靶材市场深度调查与发展前景报告》,同时共研产业咨询(共研网)还提供产业数据、产业研究、政策研究、产业链咨询、产业图谱、产业规划、可行性分析、商业计划书、IPO咨询等产品和解决方案。

深度报告共研产业咨询 - 深度报告
2023-2029年中国高性能溅射靶材市场深度调查与发展前景报告

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报告首先介绍了高性能溅射靶材行业定义、商业模式、产业壁垒、风险因素、产业特征及研究方法;接着在综合行业PEST环境的基础上对国内外市场高性能溅射靶材产品产销、规模以及价格特征做了重点分析

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